[发明专利]掩膜版及其制造方法、蒸镀装置、显示装置有效

专利信息
申请号: 201811338966.0 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN109402559B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 曲连杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开一种掩膜版及其制造方法、蒸镀装置、显示装置,属于蒸镀技术领域。该方法包括:在衬底基板上形成第一光刻胶图形,第一光刻胶图形由多个光刻胶结构构成,光刻胶结构的轮廓呈喇叭形,具有远离衬底基板的第一表面和靠近衬底基板的第二表面,第一表面的尺寸小于第二表面的尺寸;在形成第一光刻胶图形的衬底基板上形成金属层,金属层具有凹陷区域和多个凸起区域,凹陷区域为金属层上除凸起区域之外的区域;在凹陷区域中形成第二光刻胶图形,第二光刻胶图形在金属层上的正投影与凹陷区域重合;去除金属层未被第二光刻胶图形覆盖的区域、第二光刻胶图形、衬底基板和第一光刻胶图形得到掩膜版。本申请提高了掩膜版的精度。
搜索关键词: 掩膜版 及其 制造 方法 装置 显示装置
【主权项】:
1.一种掩膜版的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基板上形成第一光刻胶图形,所述第一光刻胶图形由阵列排布的多个光刻胶结构构成,每个光刻胶结构的外部轮廓呈喇叭形,每个光刻胶结构具有远离所述衬底基板的第一表面和靠近所述衬底基板的第二表面,所述第一表面的尺寸小于所述第二表面的尺寸;在形成有所述第一光刻胶图形的衬底基板上形成覆盖所述第一光刻胶图形的金属层,所述金属层具有凹陷区域和多个凸起区域,所述多个凸起区域与所述多个光刻胶结构一一对应,所述凹陷区域为所述金属层上除所述凸起区域之外的区域;在所述金属层的凹陷区域中形成第二光刻胶图形,所述第二光刻胶图形在所述金属层上的正投影与所述凹陷区域重合;去除所述金属层上未被所述第二光刻胶图形覆盖的区域、所述第二光刻胶图形、所述衬底基板和所述第一光刻胶图形,得到掩膜版,所述掩膜版具有多个蒸镀孔,每个蒸镀孔由形状为喇叭形的两个子蒸镀孔构成,每个子蒸镀孔具有第一开口和第二开口,所述第一开口的尺寸小于所述第二开口的尺寸,每个蒸镀孔的两个子蒸镀孔的第一开口重合,第二开口位于所述掩膜版的不同版面上。
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