[发明专利]一种荧光量子点的优化处理方法有效
| 申请号： | 201811340801.7 | 申请日： | 2018-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN109609114B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 卢睿;边盾;杨磊;刘莹 | 申请（专利权）人： | 天津市中环量子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 300380 天津市西青区西青学*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种荧光量子点的优化处理方法，包括以下步骤：(1)制备荧光量子点包覆复合材料，所述荧光量子点包覆复合材料包括荧光量子点和包覆在所述荧光量子点上的阻挡层；(2)取荧光量子点包覆材料，加入硅烷偶联剂二，加热搅拌，所述硅烷偶联剂二含有官能团碳碳双键、环氧基、丙烯酸基、氨基甲酸酯基中的任一种；(3)在步骤(2)的产物表面制备聚合物层；(4)对步骤(3)的产物进行辐照处理。利用本发明的方法优化处理后的荧光量子点能够保持较好的量子产率，提高了材料的化学稳定性和使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 荧光 量子 优化 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种荧光量子点的优化处理方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)制备荧光量子点包覆材料，所述荧光量子点包覆材料包括荧光量子点和包覆在所述荧光量子点上的阻挡层；(2)取荧光量子点包覆材料，分散于非极性溶剂中，在惰性气体保护下加入硅烷偶联剂二，加热搅拌，所述硅烷偶联剂二含有官能团碳碳双键、环氧基、丙烯酸基、氨基甲酸酯基中的任一种；(3)加入聚合物单体，在步骤(2)的产物表面制备聚合物层；(4)在惰性气体保护下，对步骤(3)的产物进行辐照处理。
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