[发明专利]一种高电流密度晶格失配太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811343894.9 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN109309139A 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 高熙隆;刘建庆;刘雪珍;宋欣慰;刘恒昌 申请(专利权)人: 中山德华芯片技术有限公司
主分类号: H01L31/078 分类号: H01L31/078;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 冯炳辉
地址: 528437 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高电流密度晶格失配太阳能电池及其制备方法,采用外延生长技术,在最接近衬底的那个子电池的基区与发射区之间生长具有一定带隙组合的应变补偿量子阱结构。该量子阱所采用的材料光学带隙低于与其毗邻的基区和发射区材料光学带隙,势阱材料和势垒材料厚度均小于临界厚度,同时,与毗邻材料晶格常数失配度不超过10%。此设计方案可以将电子或空穴存储于量子阱内,提高少数载流子收集效率,进而提高光电转换效率;同时,采用应变补偿结构的量子阱,可有效释放应力;另外,利用GaInNAs材料的特有性质,发挥位错阻挡层的作用,降低后续生长的材料中的穿透位错密度,提高材料晶体质量,最终提升电池转换效率。
搜索关键词: 量子阱 太阳能电池 晶格失配 带隙 基区 制备 毗邻 应变补偿量子阱 电池转换效率 光电转换效率 外延生长技术 发射区材料 少数载流子 位错阻挡层 材料光学 材料晶格 材料晶体 穿透位错 光学带隙 空穴存储 势垒材料 收集效率 应变补偿 有效释放 生长 发射区 失配度 子电池 衬底 势阱
【主权项】:
1.一种高电流密度晶格失配太阳能电池,所述太阳能电池由衬底及按层状结构依次叠加的多个子电池构成,其特征在于:在最接近衬底的那个子电池的基区与发射区之间沉积有应变补偿量子阱,将电子或空穴存储于量子阱内,以提高少数载流子收集效率,同时释放晶格失配引入的应力并过滤位错。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山德华芯片技术有限公司,未经中山德华芯片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811343894.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top