[发明专利]光刻曝光系统在审
| 申请号： | 201811346136.2 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109814340A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 陈鑫封;张汉龙;陈立锐;刘柏村 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供一种在光刻曝光系统中产生辐射光的方法。方法包括连接耦接至支撑件的第一喷嘴总成与存储构件的出口，存储构件在其内部接收目标燃料。方法还包括引导目标燃料流过第一喷嘴总成，且经由第一喷嘴总成供应目标燃料的液滴至激发区内。方法亦包括移动支撑件以连接耦接至支撑件的第二喷嘴总成与出口。除此之外，方法包括引导目标燃料流过第二喷嘴总成，且经由第二喷嘴总成供应目标燃料的液滴至激发区内。方法还包括以激光脉冲照射在激发区中的目标燃料的液滴。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴总成 液滴 光刻曝光系统 存储构件 供应目标 燃料流过 引导目标 支撑件 燃料 耦接 激发 激光脉冲照射 移动支撑件 接收目标 目标燃料 辐射光 出口 | ||
【主权项】：
1.一种光刻曝光系统，包括：一选择机构；多个喷嘴总成，耦接至该选择机构，且所述喷嘴总成中的每一者配置以喷出一目标燃料的一液滴；一存储构件，配置以存储该目标燃料，且该存储构件具有一出口，其中，该选择机构是配置以选择性地且流体地连接该出口与所述喷嘴总成中的一者，以使该目标燃料从该存储构件经由该出口被供应至连接该出口的所述喷嘴总成中的一者；以及一激光产生器，配置以产生一激光脉冲以击中该液滴。
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