[发明专利]基板处理方法以及元件制造装置在审
| 申请号： | 201811346147.0 | 申请日： | 2016-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109375475A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 铃木智也;宫地章;木内徹;加藤正纪;鬼头义昭 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;任默闻 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明将基板P沿长边方向搬送并于基板P上曝光电子元件用图案的曝光装置EX；且具备：对准显微镜ALG，其检测形成于基板P上的多个标记的标记位置信息；第1图案曝光部EXH1，其为于基板P上的曝光区域曝光图案，而将与图案的设计信息对应的能量射线根据标记位置信息进行位置调整后进行投射；及控制装置14，其为制作与应曝光于元件形成区域内的图案对应的遮罩图案，而输出与投射至曝光区域的能量射线的位置调整相关的调整信息及标记位置信息中的至少一者。又，曝光装置具备：具有支承面的基板支承构件，该支承面使基板于上述搬送方向弯曲而对其进行支承；及多个曝光部，其沿搬送方向配置，构成为以互不相同的曝光方式将上述图案曝光于上述基板。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 标记位置信息 图案 能量射线 曝光区域 曝光装置 图案曝光 位置调整 投射 支承 基板支承构件 元件形成区域 调整信息 方向配置 基板处理 控制装置 曝光方式 曝光图案 设计信息 元件制造 曝光 曝光部 支承面 长边 遮罩 显微镜 对准 输出 检测 制作 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理方法，其特征在于，其将可挠性长条状薄片基板沿长边方向进行搬送，并于所述薄片基板上对电子元件用图案进行曝光处理；且包括：检测步骤，其检测形成于所述薄片基板上的多个标记的标记位置信息；第1曝光步骤，其通过投射与设计信息相应的能量射线的第1图案曝光部，于应形成所述电子元件的所述薄片基板上的元件形成区域，将与所述图案的设计信息对应的能量射线根据所述标记位置信息进行位置调整后进行投射；及产生步骤，其根据与要投射至所述元件形成区域的所述能量射线的所述位置调整相关的调整信息及所述标记位置信息中的至少一者以及所述设计信息，而产生用于应曝光于所述元件形成区域内的遮罩图案的制作的实际图案信息。
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