[发明专利]基于阴影的二次共轭成像光路有效
| 申请号： | 201811347408.0 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109297675B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 柳森;宋强;黄洁;文雪忠;罗庆;姜林;陈萍;谢爱民 | 申请（专利权）人： | 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 |
| 主分类号： | G01M9/06 | 分类号： | G01M9/06;G02B1/00;G02B13/00;G02B13/02 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人： | 张利明 |
| 地址： | 621051 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于阴影的二次共轭成像光路，所述光路中光源发射的光束经一号平行光镜组形成平行光，所述平行光穿过流场后经二号平行光镜组会聚至刀口光阑；刀口光阑的出射光束经准直物镜组形成一次像；所述一次像经过成像物镜组形成刀口光阑像，并在成像面处形成二次像；所述光源与刀口光阑共轭；刀口光阑与刀口光阑像共轭；一次像与二次像共轭；所述一号平行光镜组和二号平行光镜组的相对孔径相同。本发明光路中通过多次物象共轭关系来延长阴影成像过程中后截距长度，从而可在光路中的多个位置进行分光，便于开展多幅阴影成像，可用于多路阴影分光成像的测试系统搭建。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 阴影 二次 共轭 成像 | ||
【主权项】：
1.一种基于阴影的二次共轭成像光路，其特征在于包括：光源(1)、一号平行光镜组(2)、流场(3)、二号平行光镜组(4)、刀口光阑(5)、准直物镜组(6)和成像物镜组(8)，光源(1)发射的光束经一号平行光镜组(2)形成平行光，所述平行光穿过流场(3)后经二号平行光镜组(4)会聚至刀口光阑(5)；刀口光阑(5)的出射光束经准直物镜组(6)形成一次像(7)；所述一次像(7)经过成像物镜组(8)形成刀口光阑像(9)，并在成像面处形成二次像(10)；所述光源(1)与刀口光阑(5)共轭；刀口光阑(5)与刀口光阑像(9)共轭；一次像(7)与二次像(10)共轭；所述一号平行光镜组(2)和二号平行光镜组(4)的相对孔径相同。
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