[发明专利]掩膜版、掩膜组件以及蒸镀方法在审
| 申请号： | 201811347484.1 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109112477A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 徐海;孙力 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L51/00 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提出一种掩膜版、掩膜组件以及蒸镀方法，掩膜版设于掩膜框架上。掩膜版的材质包括磁性材料且具有第一表面和第二表面，掩膜版的第一表面背向掩膜框架，掩膜版的第二表面朝向掩膜框架，掩膜版的第一表面上凸设有多个凸起结构。通过上述设计，本公开在蒸镀的过程中，可以最大程度地降低由于基板与掩膜版紧贴所造成的压痕，从而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 第一表面 掩膜 蒸镀 第二表面 掩膜组件 最大程度地 产品良率 磁性材料 凸起结构 基板 上凸 压痕 紧贴 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，设于掩膜框架上，其特征在于，所述掩膜版的材质包括磁性材料且具有第一表面和第二表面，所述掩膜版的第一表面背向所述掩膜框架，所述掩膜版的第二表面朝向所述掩膜框架，所述掩膜版的第一表面上凸设有多个凸起结构。
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