[发明专利]一种含抑制缝隙散射涂层的缩比目标构造方法有效
| 申请号： | 201811347672.4 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109614652B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 许勇刚;袁黎明;梁子长;高伟;张元 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G16C60/00 | 分类号： | G16C60/00;G06F30/17 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;徐雯琼 |
| 地址： | 200090 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含抑制缝隙散射涂层的缩比目标构造方法，包含以下过程：在考虑缩比材料反射特性的基础上，对目标弱散射源与材料之间的结构效应进行仿真分析，然后通过采取调整缝隙宽度优化出散射特性更为接近的缩比目标模型；构造方法进一步包括：步骤S1、原型隐身材料数据和含缝模型参数的输入；步骤S2、对原型隐身材料斜反射率进行计算；步骤S3、构造缩比材料；步骤S4、设定缝隙宽度；步骤S5、RCS仿真对比；步骤S6、输出缩比目标模型。本发明具有针对含涂层与弱散射的电磁模型，能够保证缩比模型的反射和散射特性的一致性。本发明构造的缩比模型对弱散射源进行缝隙宽度补偿，更方便于缩比模型的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 缝隙 散射 涂层 目标 构造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含抑制缝隙散射涂层的缩比目标构造方法，其特征在于，包含以下过程：在考虑缩比材料反射特性的基础上，对目标弱散射源与材料之间的结构效应进行仿真分析，然后通过采取调整缝隙宽度优化出散射特性更为接近的缩比目标模型；所述构造方法进一步包括：步骤S1、原型隐身材料数据和含缝模型参数的输入；步骤S2、对原型隐身材料斜反射率进行计算；步骤S3、构造缩比材料；步骤S4、设定缝隙宽度；步骤S5、RCS仿真对比；步骤S6、输出缩比目标模型。
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