[发明专利]铜镓合金溅射靶材的制备方法及靶材在审
| 申请号： | 201811348239.2 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109136635A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 孔伟华 | 申请（专利权）人： | 江苏迪丞光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C22C9/00 | 分类号： | C22C9/00;C22C1/02;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 221300 江苏省徐州市邳*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于新材料领域，具体涉及一种铜镓合金溅射靶材的制备方法，包括：熔炼铜镓合金液；浇铸铜镓合金液；以及冷却取出，以制备出具有杂质含量低、组份均匀性好、气体含量低和内部结构优异的铜镓合金靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 铜镓合金 制备 溅射靶材 铜镓合金靶 新材料领域 均匀性好 熔炼 靶材 组份 浇铸 冷却 取出 | ||
【主权项】：
1.一种铜镓合金溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括：金属铜锭、金属镓锭熔炼铜镓合金液；铜镓合金液浇铸在石墨模具中；以及冷却取出。
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