[发明专利]薄膜晶体管阵列及其修复方法、移位寄存器有效

专利信息
申请号: 201811352930.8 申请日: 2018-11-14
公开(公告)号: CN109473450B 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 黄北洲 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 李文渊
地址: 518101 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及一种薄膜晶体管阵列及其修复方法、移位寄存器,该薄膜晶体管阵列包括至少一个薄膜晶体管结构、辅助源极和辅助漏极。其中,该辅助源极和该辅助漏极沿第一方向平行相对设置;各所述薄膜晶体管结构设置于辅助源极和辅助漏极之间,且各所述薄膜晶体管结构分别与辅助源极和辅助漏极连接;相邻的薄膜晶体管结构之间设有耦接部,该耦接部用于使各所述薄膜晶体管结构沿所述第一方向串接。上述薄膜晶体管阵列中,由于各薄膜晶体管结构分别与辅助源极和辅助漏极连接,当切断其中一个薄膜晶体管结构时,不会影响薄膜晶体管阵列的正常工作,使该薄膜晶体管阵列易于修复。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 及其 修复 方法 移位寄存器
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列,其特征在于,包括至少一个薄膜晶体管结构、辅助源极和辅助漏极;其中:所述辅助源极和所述辅助漏极沿第一方向平行相对设置;各所述薄膜晶体管结构设置于所述辅助源极和所述辅助漏极之间,且各所述薄膜晶体管结构分别与所述辅助源极和所述辅助漏极连接;相邻的所述薄膜晶体管结构之间设有耦接部,所述耦接部用于使各所述薄膜晶体管结构沿所述第一方向串接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠科股份有限公司,未经惠科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811352930.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top