[发明专利]用于钻咀孔径0.8mm以上阻焊单层开窗孔的曝光菲林在审
| 申请号： | 201811354938.8 | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN109298595A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 王金龙;郑威;纪龙江 | 申请（专利权）人： | 大连崇达电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/76 | 分类号： | G03F1/76;G03F1/68 |
| 代理公司： | 大连至诚专利代理事务所(特殊普通合伙) 21242 | 代理人： | 杨威;涂文诗 |
| 地址： | 116600 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于钻咀孔径0.8mm以上阻焊单层开窗孔的曝光菲林，其特征在于，与阻焊绿油面的通孔对应的区域增加遮光图形。本发明通过在阻焊绿油面的曝光菲林的与通孔对应的区域增加遮光图形，使阻焊绿油面曝光时阻止紫外光通过通孔固化单面开窗孔周围需要被去除的绿油，杜绝单面开窗孔冒油的质量问题。 | ||
| 搜索关键词： | 阻焊 绿油 菲林 通孔 曝光 单面开窗 区域增加 遮光图形 开窗孔 单层 紫外光 质量问题 去除 固化 | ||
【主权项】：
1.一种用于钻咀孔径0.8mm以上阻焊单层开窗孔的曝光菲林，其特征在于，与阻焊绿油面的通孔对应的区域增加遮光图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连崇达电路有限公司，未经大连崇达电路有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811354938.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
