[发明专利]一种高反光学元件的S、P偏振反射率及相位差高精度同时测量方法有效

专利信息
申请号: 201811356204.3 申请日: 2018-11-15
公开(公告)号: CN109489939B 公开(公告)日: 2020-09-25
发明(设计)人: 崔浩;樊峻棋;张耀平;龙国云;周虹 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种高反光学元件的S、P偏振反射率及相位差高精度同时测量方法,其中:一束与S和P偏振方向成一定角度的线偏振激光入射到初始谐振腔,同时探测经过偏振分光镜出射的两束垂直线偏光衰荡信号,将两路衰荡信号的和拟合处理得到初始腔偏振反射率,两路衰荡信号的差拟合处理得到初始衰荡腔的偏振相位差。加入待测样品形成测试谐振腔,同理测量得到测试谐振腔偏振反射率和相位差,经计算就可以得到待测高反光学元件的S、P偏振反射率及相位差。本测量方法系统结构简单,不仅可同时测量高反射光学元件的偏振反射率和相位差,而且测量精度远高于传统测量方法。
搜索关键词: 一种 光学 元件 偏振 反射率 相位差 高精度 同时 测量方法
【主权项】:
1.一种高反光学元件的S、P偏振反射率及相位差高精度同时测量方法,其特征在于,实现步骤如下:步骤(1)、将一束与S偏振方向成一定角度θi的线偏振激光注入到稳定的初始光腔,同时采集经过旋转偏振角度θo的半波片和偏振分光镜出射的两束垂直光腔衰荡信号I01(t)和I02(t),将两路衰荡信号的和(I01(t)+I02(t))进行双指数拟合处理得到衰荡时间τ0s和τ0p,从而计算得到初始腔偏振反射率R0s和R0p;将两路衰荡信号的差(I01(t)‑I02(t))拟合计算得到初始衰荡腔的偏振相位差步骤(2)、在初始光腔内根据使用角度加入待测高反光学元件,相应地移动待测光学元件后的平凹高反射输出腔镜构成稳定的测试光腔,腔长为L1,同理可以得到测试衰荡腔的偏振反射率R1s和R1p,偏振相位差计算得到待测高反射光学元件的偏振反射率Rs=R1s/R0s,Rp=R1p/R0p,相位差φ=φ1‑φ0
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