[发明专利]光学感应器及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201811358902.7 申请日: 2018-11-15
公开(公告)号: CN111191491B 公开(公告)日: 2023-10-27
发明(设计)人: 李新辉;曾汉良;余俊良;林光明;陈茵;陈子端;林学荣;吕文志;吕定蓉 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: G06V40/13 分类号: G06V40/13
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;任默闻
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明实施例提供一种光学感应器及其形成方法,该光学感应器包括:位于基板中的多个像素以及位于基板之上的光准直层。上述光准直层包括:第一遮光层、第一透光柱、第二遮光层及第二透光柱。第一遮光层位于基板之上。第一透光柱穿过第一遮光层,对应设置于像素上。第二遮光层位于第一遮光层及第一透光柱上方;以及第二透光柱,穿过第二遮光层,对应设置于第一透光柱上;第一透光柱的顶面积不等于第二透光柱的底面积。该光学感应器可避免工艺能力限制,提高透光柱的总高宽比,改善多层透光柱之间的对准问题,以提升工艺良率。
搜索关键词: 光学 感应器 及其 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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