[发明专利]一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法及制备的陶瓷连接件在审
申请号: | 201811360720.3 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN109437957A | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 郭伟明;吴利翔;朱林林;牛文彬;卫紫君;林锐霖;林华泰 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C04B37/00 | 分类号: | C04B37/00 |
代理公司: | 广东广信君达律师事务所 44329 | 代理人: | 杨晓松 |
地址: | 510062 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于陶瓷连接技术领域,公开了一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法及制备的陶瓷连接件,该方法先将SiC粉和Al2O3‑Re2O3混合后加入溶剂和球磨介质混合,干燥后得到混合粉体;将混合粉体进行造粒,将造粒后的粉体铺展在两块抛光后的SiC中间形成三明治结构;将三明治结构的样品放入热处理炉中,在真空或保护气氛下,升温至1000℃~1400℃进行热处理,再加入掺杂填料的有机碳硅烷在1300~1600℃进行化学气相渗透,得到SiC陶瓷的连接件。本发明通过纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的低温无压连接,连接处的漏率达到0~1×10‑10Pa·L/s。 | ||
搜索关键词: | 化学气相渗透 浸渍 共晶相 陶瓷 瞬态 三明治结构 陶瓷连接件 混合粉体 造粒 制备 热处理 球磨介质 热处理炉 陶瓷连接 连接件 有机碳 抛光 溶剂 放入 粉体 硅烷 漏率 无压 铺展 掺杂 | ||
【主权项】:
1.一种纳米浸渍瞬态共晶相结合化学气相渗透实现SiC陶瓷的连接方法,其特征在于,包括如下具体步骤:S1.将SiC粉和Al2O3‑Re2O3混合后加入溶剂和球磨介质混合,干燥后得到混合粉体;所述Re为Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu;S2.将混合粉体进行造粒,将造粒后的粉体铺展在两块抛光后的SiC中间形成三明治结构;S3.将三明治结构的样品放入热处理炉中,在真空或保护气氛下,升温至1000℃~1400℃进行热处理,再加入掺杂填料的有机碳硅烷在1300~1600℃进行化学气相渗透,得到SiC陶瓷的连接件。
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