[发明专利]半导体功率器件在审

专利信息
申请号: 201811364479.1 申请日: 2018-11-16
公开(公告)号: CN111199958A 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 袁愿林;刘伟;刘磊;毛振东 申请(专利权)人: 苏州东微半导体有限公司
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H01L23/49
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 215028 江苏省苏州市苏州工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于半导体功率器件技术领域,具体公开了一种半导体功率器件,包括:封装在同一个封装体内的第一MOSFET功率器件芯片和第二MOSFET功率器件芯片,其中:所述第一MOSFET功率器件芯片的漏极金属层与所述第二MOSFET功率器件芯片的源极金属层电性连接;所述第一MOSFET功率器件芯片的源极金属层与所述第二MOSFET功率器件芯片的栅极金属层均接所述封装体的源极引脚;所述第一MOSFET功率器件芯片的栅极金属层接所述封装体的栅极引脚;所述第二MOSFET功率器件芯片的漏极金属层接所述封装体的漏极引脚。本发明能够降低半导体功率器件的特征导通电阻。
搜索关键词: 半导体 功率 器件
【主权项】:
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