[发明专利]图形线宽测量方法及系统、数据处理装置有效
| 申请号： | 201811365293.8 | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN109297686B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 成在文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 汪源;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。该图形线宽测量方法包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。本发明所提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置，能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 测量方法 系统 数据处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种图形线宽测量方法，其特征在于，包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。
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