[发明专利]基于硅通孔的低通滤波器设计方法在审

专利信息
申请号: 201811367799.2 申请日: 2018-11-16
公开(公告)号: CN109743034A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 董刚;缑石龙;杨银堂 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H03H1/00 分类号: H03H1/00;G06F17/50
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;王喜媛
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于硅通孔的低通滤波器设计方法,主要解决现有基于硅通孔低通滤波器设计过程复杂,需要大量的时间和计算资源的问题。其实现方案是:1)根据工程需求和滤波器输入条件确定低通滤波器选型和设计指标;2)根据设计指标,确定低通滤波器各元件值,建立滤波器的集总电路图;3)根据集总电路图中的各节电感元件值,确定各节三维集成电感中硅通孔的排列的行、列间距和电感匝数;4)根据集总电路图中的各节电容元件值,确定各节同轴硅通孔电容器的内介质层厚度;5)利用3)和4)中确定的参数,在电磁软件中建立硅通孔低通滤波器三维模型并仿真,完成整个低通滤波器的设计。本发明设计简单,耗时更短,可用于射频无线通信系统。
搜索关键词: 低通滤波器 硅通孔 电路图 电感 射频无线通信系统 电容器 滤波器 滤波器输入 工程需求 计算资源 内介质层 三维集成 三维模型 设计过程 条件确定 节电容 可用 同轴 选型 匝数 节电 耗时
【主权项】:
1.基于硅通孔的低通滤波器设计方法,其特征在于,包括如下:(1)根据工程需求和滤波器输入条件确定低通滤波器选型和设计指标,其中,低通滤波器选型包括:巴特沃斯型、切比雪夫型、逆切比雪夫型以及椭圆型;设计指标包括:滤波器阶数N、截止频率ωc、通带最大衰减度Ap、特征阻抗zo以及阻带最大衰减度As;(2)根据设计指标,利用集总元件低通滤波器设计方法,确定低通滤波器各元件值,建立滤波器的集总电路图;(3)根据集总电路图中的各节电感元件值,确定各节三维集成电感中硅通孔的排列的行、列间距和电感匝数:(3a)根据集总电路图中的电感元件值,先给出一组包括电感匝数NT、硅通孔排列的行间距PTSV和列间距STSV的参数值,计算此组参数值对应的三维集成电感的电感值和面积;(3b)将(3a)中得到的电感值与集总电路中的电感元件值比较,根据比较结果调整电感匝数NT、行间距PTSV和列间距STSV的值,重新计算电感值和面积;(3c)重复(3a)‑(3b)操作,直到计算的电感值等于集总电路的电感值,且电感面积最小,得到最终的电感匝数NT、硅通孔排列的行间距PTSV和列间距STSV的值;(4)根据集总电路图中的各节电容元件值,确定各节同轴硅通孔电容器的内介质层厚度tr其中,lTSV为硅通孔高度,rTSV为硅通孔铜柱半径,C为集总电路图中的电容元件值,ε为同轴硅通孔内介质层材料的介电常数;(5)利用(3)中确定的各节电感器的参数和(4)中确定的各节电容器的参数,在电磁软件中建立硅通孔低通滤波器三维模型,进行仿真,完成对整个低通滤波器的设计。
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