[发明专利]一种提高成膜稳定性的系统

摘要

本发明提供提高成膜稳定性的系统，属于半导体制造技术领域，包括：臭氧发生器，所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧；反应腔体，基于所述臭氧进行所述STI HARP成膜工艺；第一管路，用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述反应腔体；臭氧处理器，用于接收多余的所述臭氧；第二管路，用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述臭氧处理器；第三管路，所述第三管路用于将所述第一管路中输送的所述臭氧按照分流策略部分分流至所述臭氧处理器。本发明的有益效果：能有效的保证臭氧浓度在整个成膜过程中的稳定性，提高了成膜的稳定性。降低了臭氧浓度波动带来的成膜异常风险。

主权项

1.一种提高成膜稳定性的系统，其特征在于，适用于STI HARP成膜工艺；所述系统包括：臭氧发生器，所述臭氧发生器用于产生并输出臭氧；反应腔体，所述反应腔体用于接收所述臭氧，并基于所述臭氧进行所述STI HARP成膜工艺；第一管路，所述第一管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述反应腔体；臭氧处理器，所述臭氧处理器用于接收所述第一管路中多余的所述臭氧；第二管路，所述第二管路用于将所述臭氧发生器输出的臭氧输送至所述臭氧处理器；所述系统还包括：第三管路，所述第三管路用于将所述第一管路中输送的所述臭氧按照分流策略部分分流至所述臭氧处理器。