[发明专利]包括与升降的引导部联动的排气调节部的基板处理装置

摘要

本发明涉及一种包括与在腔室的内部升降的引导部联动的排气调节部的基板处理装置。本发明包括：腔室，其包括处理物质形成区域、处理区域以及排出区域；夹盘，其使基板位于处理区域；引导部，其将处理物质引导至处理区域；排出部，其形成有排出处理物质的多个排气孔；上升下降部，其在基板被搬入及搬出腔室时在腔室的内部使引导部上升，且在处理基板时在腔室的内部使引导部下降；驱动部，其向上升下降部提供驱动力；以及排气调节部，其与上升下降部联动而上升下降，上升下降部在上升下降的一部分区间使引导部和排气调节部一同升降，且在上升下降的另外的一部分区间使排气调节部升降来调节排出部的排出量。

主权项

1.一种包括与升降的引导部联动的排气调节部的基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，其包括作为形成处理物质的区域的形成区域、作为用所述处理物质处理基板的区域的处理区域以及作为与泵连接而排出所述处理物质的区域的排出区域；夹盘，其在上部安放所述基板以使所述基板位于所述处理区域；引导部，其将在所述形成区域形成的所述处理物质引导至所述处理区域；排出部，其设置于所述处理区域与所述排出区域的界线而形成有排出所述处理物质的多个排气孔；上升下降部，其贯通所述腔室而设置，在所述基板被搬入及搬出所述腔室时在所述腔室的内部使所述引导部上升，并在处理所述基板时在所述腔室的内部使所述引导部下降；驱动部，其设置于所述腔室外部而向所述上升下降部提供驱动力；以及排气调节部，其与所述上升下降部联动而上升下降，所述上升下降部在上升下降的一部分区间使所述引导部和所述排气调节部一同升降，且在上升下降的另外的一部分区间使所述排气调节部升降来调节所述排出部的排出量。