[发明专利]一种超薄PCB基板的封装方法及其结构在审
申请号: | 201811369306.9 | 申请日: | 2018-11-16 |
公开(公告)号: | CN109346432A | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 岳长来 | 申请(专利权)人: | 深圳市和美精艺科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L23/12;H05K3/00;H05K1/18 |
代理公司: | 深圳市嘉宏博知识产权代理事务所 44273 | 代理人: | 孙强 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种超薄PCB基板的封装方法及其结构,其结构包括超薄基板、黏着层、可分离铜箔、载体。超薄基板可为任何材质的已完成常规电路板流程制作的待封装基板。黏着层为产业界熟知的可作为超薄基板与可分离铜箔的黏合剂。黏着层具有可用IPA清洗剂清洗掉而无残留的特性,不对超薄基板产生任何损伤及污染。可分离铜箔为业界已熟知的铜箔,具有易于剥离,无其他品质隐患的特性。载体为常规半固化片经高温高压压合而形成,起到增强载体硬度、厚度、易操作的作用。本创作涉及超薄基板封装的全流程,在基板封装前键合完成,在基板封装后将键合层去除。 | ||
搜索关键词: | 基板 铜箔 基板封装 可分离 黏着层 超薄PCB 封装 清洗剂 黏合剂 常规电路板 半固化片 封装基板 高温高压 键合层 全流程 无残留 可用 前键 压合 去除 清洗 损伤 剥离 创作 污染 制作 | ||
【主权项】:
1.一种超薄PCB基板的封装方法,其特征在于:包括如下步骤,第一步、制作可分离铜箔层,该可分离铜箔层包括铜箔层、剥离层以及载体铜层,其中,该载体铜层设置在该剥离层底面上,该铜箔层设置在该剥离层顶面上,在该可分离铜箔层中,该载体铜层与该剥离层紧密结合,在剥离时,该剥离层会优先黏附在该载体铜层上,而该铜箔层则会首先从该剥离层顶面上分离开来,该铜箔层厚度小于该载体铜层,第二步、将半固化片与该可分离铜箔层压合在一起,两者形成一可分离载体,第三步、在该铜箔层顶面上涂覆黏着层,第四步、在该黏着层顶面贴合超薄封装基板,采用真空压机将该超薄封装基板贴合在该黏着层顶面,第五步、在该超薄封装基板上封装晶圆芯片以及绝缘材料层,第六步、剥离该剥离层,将该剥离层、该载体铜层以及该半固化片整体剥离下来,同时将该铜箔层裸露在外,为下一工步制作做准备,第七步、去除该铜箔层,本步骤利用碱性蚀刻药水蚀刻掉对应的该铜箔层,第八步、清洗去除该黏着层,得到成品。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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