[发明专利]一种基于浸渍提拉的纳米粒子薄膜制备方法在审
申请号: | 201811369663.5 | 申请日: | 2018-11-17 |
公开(公告)号: | CN109482439A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 黎相孟;魏慧芬;祝锡晶;王建青;冯昕宇 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | B05D1/20 | 分类号: | B05D1/20;B05C3/09;B05C13/02 |
代理公司: | 太原新航路知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14112 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 030051 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本发明涉及纳米粒子薄膜制备技术,具体是一种基于浸渍提拉的纳米粒子薄膜制备方法。本发明解决了现有纳米粒子薄膜制备方法制备效率低、制备质量差、制备工艺复杂、制备成本高的问题。一种基于浸渍提拉的纳米粒子薄膜制备方法,该方法是采用如下步骤实现的:S1:制作浸渍提拉装置;S2:将基片置于载片台的上表面;向烧杯中注入清水;S3:载片台、倒U形提拉架、基片一起快速下降并浸渍于清水中;S4:在清水的水面形成Langmuir‑Blodgett薄膜;S5:载片台、倒U形提拉架、基片一起缓慢上升,进而将Langmuir‑Blodgett薄膜捕获至基片的上表面形成纳米粒子薄膜;S6:将基片在50~60℃下进行烘烤。本发明适用于纳米粒子薄膜制备。 | ||
搜索关键词: | 制备 纳米粒子薄膜 浸渍提拉 载片台 清水 上表面 倒U形 拉架 薄膜 浸渍提拉装置 浸渍 缓慢上升 制备工艺 质量差 烘烤 烧杯 捕获 水面 制作 | ||
【主权项】:
1.一种基于浸渍提拉的纳米粒子薄膜制备方法,其特征在于:该方法是采用如下步骤实现的:S1:制作浸渍提拉装置;所述浸渍提拉装置包括矩形框架(1)、载物台(2)、烧杯(3)、电机(4)、丝杠导轨模组(5)、两个定滑轮(6)、牵引皮带(7)、载片台(8)、倒U形提拉架(9);矩形框架(1)呈直立设置;载物台(2)固定于矩形框架(1)的下内侧壁;烧杯(3)置于载物台(2)的上表面,且烧杯(3)的杯口朝上;电机(4)固定于矩形框架(1)的左内侧壁下部,且电机(4)的输出轴朝上;丝杠导轨模组(5)竖向固定于矩形框架(1)的左内侧壁,且丝杠导轨模组(5)的滑台朝右;丝杠导轨模组(5)的丝杠下端与电机(4)的输出轴上端连接;两个定滑轮(6)分别固定于矩形框架(1)的上内侧壁左部和上内侧壁中部;牵引皮带(7)绕于两个定滑轮(6)上,且牵引皮带(7)的左端与丝杠导轨模组(5)的滑台固定;载片台(8)位于烧杯(3)的杯口上方;倒U形提拉架(9)的两个侧边分别垂直固定于载片台(8)的上表面左部和上表面右部;倒U形提拉架(9)的顶边中部与牵引皮带(7)的右端固定;S2:选取基片(10),并对基片(10)进行预处理;然后,将基片(10)置于载片台(8)的上表面,并采用夹具(11)将基片(10)的边缘与载片台(8)固定;然后,向烧杯(3)中注入清水(12);S3:启动电机(4),电机(4)驱动丝杠导轨模组(5)的丝杠进行正向快速转动,由此使得丝杠导轨模组(5)的滑台快速上升,从而使得载片台(8)、倒U形提拉架(9)、基片(10)一起快速下降并浸渍于清水(12)中;待基片(10)到达清水(12)的水面以下5~10mm时,关停电机(4);S4:采用数字微泵(13)向烧杯(3)中连续缓慢地补充纳米粒子悬浮液(14),由此在清水(12)的水面形成Langmuir‑Blodgett薄膜(15);S5:启动电机(4),电机(4)驱动丝杠导轨模组(5)的丝杠进行反向缓慢转动,由此使得丝杠导轨模组(5)的滑台缓慢下降,从而使得载片台(8)、倒U形提拉架(9)、基片(10)一起缓慢上升,进而将Langmuir‑Blodgett薄膜(15)捕获至基片(10)的上表面形成纳米粒子薄膜(16);待载片台(8)到达烧杯(3)的杯口上方时,关停电机(4);S6:将基片(10)从载片台(8)上取下,并采用恒温加热板将基片(10)在50~60℃下进行烘烤,由此使得纳米粒子薄膜(16)进行自组装结晶,从而完成制备。
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