[发明专利]利用多点反射率监控制备大尺寸均匀薄膜的装置与方法

摘要

本发明提供一种利用多点反射率监控制备大尺寸均匀薄膜的装置和方法，适用于在大尺寸基底上利用多点反射率监控的方法制备大尺寸均匀薄膜，通过对多个监测位点的反射率的实时监控，确定反射率的实时的变化率，在通过各个位点的对比来控制蒸镀源对薄弱的位置进行补充，结合最初设定的预设值以完成整个膜层的均匀性蒸镀。相比于传统的采取厚度监控的方式进行镀膜，本发明的采用多点反射率监控制备大尺寸均匀薄的装置和方法在镀膜过程中更直接的监控了大尺寸产品各个位置的反射率变化，可解决单点测量无法在制造过程中评估大尺寸产品均匀性的问题，提高生产效率。

主权项

1.一种利用多点反射率监控制备大尺寸均匀薄膜的装置，适用于待镀膜产品为透明或者半透明材料，同时镀膜过程中仍为透明或者半透明状态，其特征在于，所述装置包括蒸发室、多点发射率测试设备、多路双向光纤、基底、蒸发源、蒸发源移动装置以及控制系统，其中：蒸发室，被设置为膜层蒸镀提供所需的真空和温度环境，所述基底通过基底支架支撑在蒸发室的中间位置；设置于蒸镀室外部的多点反射率测试设备，用以通过所述多路双向光纤发射单色光信号，并接收对应的多路反射光信号，由此计算得到被测对象不同位置的反射率；所述蒸发源构成为蒸发镀膜的原材料，该蒸发源所制的膜层具有透明或者半透明的特性；所述蒸发源固定在蒸发源移动装置上并随其同步移动；所述控制系统被设置用于基于所监测到的多点反射率的初值与最小值来确定当前反射率变化率Pn，并基于每个点当前反射率变化率Pn的对比，以及与目标反射率Pre的对比来驱动蒸发源移动装置的运动以控制蒸发源在二维平面内移动，对膜层较薄的位置进行补足，最终制备出均匀的膜层。