[发明专利]一种含有四个硅氢键的手性偕二硅基烷烃化合物及其合成方法和应用

摘要

本发明公开了一种含有四个硅氢键的手性偕二硅基烷烃化合物，如式VI所示，并公开了两种手性偕二硅基烷烃化合物的合成方法：(一)惰性气体下，以式V所示的烯基硅烷类化合物和式IV所示的三氢硅烷为原料，以手性CoX2‑IIP络合物为催化剂，在还原剂存在下，反应制得式VI；(二)惰性气体下，以式I所示的炔烃和式II所示的三氢硅烷、式IV所示的三氢硅烷为原料，以CoY2、双(2‑二苯基磷苯基)醚及手性CoX2‑IIP络合物为催化剂，在还原剂存在下，反应制得式VI。本发明方法反应条件温和，操作简便，原子经济性高，具有优秀的产率(57％～84％)，高区域选择性(19:1)、高对映选择性(91.6‑98.8％ee)。

主权项

1.一种含有四个硅氢键的手性偕二硅基烷烃化合物，如式VI所示：式VI中，R2,R3为不相同的基团；式VI中，*代表手性碳原子；式VI中，R1任选自H、C1‑C16的烷基或C3‑C16的环烷基或C1～C16的硅烷基；所述烷基、环烷基或硅烷基上的H不被取代或被1个以上的取代基A取代，所述取代基A包括C1‑C10的烯基、硝基、卤素、芳基A、杂环芳基A、邻苯二甲酰亚胺基、甲氧羰基、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、C1‑C16的烷氧基、C1～C16的磺酰基、苄氧基或C1‑C10的酰胺基；所述芳基A包括苯基或萘基；所述杂环芳基A包括吲哚基、噻吩基、吡啶基、哌啶基、喹啉基、咔唑基或式VII所示的基团；所述烯基、芳基A、杂环芳基A上的H不被取代或被1个以上的取代基B取代，所述取代基B包括C1～C6的烷基、C1～C3的烷氧基、卤素、三氟甲基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C3的酯基、苯基或酰胺基；式VII中，右端横线“－”表示基团与碳原子的连接键，而不表示甲基；R2,R3任选自苄基、苯基乙基、C1‑C16的烷基、芳基B或者杂环芳基B，所述芳基B如式X或式XI所示：式X中，R4、R5、R6、R7、R8任选自H、卤素、C1‑C16的烷基、C1‑C16的烷氧基、C1‑C16的烷硫基、苯基、三氟甲基、甲氧羰基、硝基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、苄氧基、酰胺基、乙酰氧甲基、2‑甲基‑1,3‑二氧环戊基中的任意一种；R4、R5、R6、R7、R8全为H时，式X所示的基团即为苯基；式XI中，R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15任选自H、卤素、C1‑C16的烷基、C1‑C16的烷氧基、C1‑C16的烷硫基、苯基、三氟甲基、甲氧羰基、硝基、羟基、C1～C3的醛基、C1～C3的羧基、氨基、C1～C16的酯基、C1‑C16的硅烷基、C1‑C16的硅氧基、苄氧基、酰胺基、乙酰氧甲基、2‑甲基‑1,3‑二氧环戊基中的任意一种；R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15全为H时，式XI所示的基团即为萘基；所述杂环芳基B为吲哚基、噻吩基、吡啶基、哌啶基、咔唑基或喹啉基。