[发明专利]一种光栅测量系统及光刻机有效
| 申请号： | 201811385338.8 | 申请日： | 2018-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN111197959B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 黄逊志;王倩倩;党宝生 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光栅测量系统及光刻机，所述光栅测量系统包括测量装置、光栅尺及运动台，所述测量装置用于测量所述光栅尺的位置信息，所述光栅尺连接于所述运动台上，所述光栅尺所在的平面与所述运动台的测量平面之间的夹角为θ，且0°＜θ＜90°。使得所述测量装置在所述运动台运动相同距离时可以扫过更多的光栅周期数，从而提高了所述光栅测量系统的位置测量分辨率。本发明还提供了一种光刻机，提高了所述光栅测量系统的位置测量分辨率，从而提高了光刻机的测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 测量 系统 光刻 | ||
【主权项】：
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