[发明专利]一种空气桥结构肖特基栅控二极管器件及其制作方法有效
申请号: | 201811386484.2 | 申请日: | 2018-11-20 |
公开(公告)号: | CN109545860B | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 张佰君;王玲龙;杨隆坤 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/45;H01L29/47;H01L21/329 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及半导体芯片太赫兹波段领域,更具体的,涉及到一种具有空气桥结构肖特基栅控二极管器件及其制作方法。空气桥结构肖特基栅控二极管器件集成了高功函数金属栅、低功函金属肖特基接触、指状空气桥。制备的空气桥肖特基栅控二极管具有正向导通电压低、反向漏电小、截止频率高、能量消耗低、非线性强等优点,其制成的混频倍频器能实现太赫兹波段的频谱搬移功能,用于优良的太赫兹源及接收器。 | ||
搜索关键词: | 一种 空气 结构 肖特基栅控 二极管 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种空气桥结构肖特基栅控二极管器件,其特征在于,由下往上,依次是衬底(1),应力缓冲层(2),GaN沟道层(3),AlGaN势垒层(4),GaN盖帽层(5);所述GaN沟道层(3)以上有两个凸面:第一凸面(7)和第二凸面(6),GaN沟道层(3)和AlGaN势垒层(4)以及GaN盖帽层(5)在两个凸面上;所述第一凸面(7)上刻蚀出一个圆柱状小孔(8),小孔(8)最少需要刻蚀至GaN沟道层(3),第一凸面(7)GaN盖帽层(5)上分别沉积欧姆接触金属(9)和肖特基接触金属(10,11),欧姆接触金属(9)和肖特基接触金属(10,11)之间有沟道(12)隔开,所述肖特基金属分为内外两层不同金属,内层肖特基金属(11)沉积在圆柱状小孔(8)内壁及圆柱底部,外层肖特基金属(10)以圆环形包围内层肖特基金属(11)形式沉积在GaN盖帽层(5)上;其中肖特基接触上加厚金;第二凸面(6)上有一层欧姆接触金属(9)且加厚金,所述肖特基上厚金与第二凸面(6)上厚金有空气桥(13)连接。
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