[发明专利]金属掩膜板框架有效
| 申请号： | 201811405884.3 | 申请日： | 2018-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN109457216B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 万永超 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种金属掩膜板框架，在其两侧分别设有一施力槽用于与反形变作用力施力机构的施力端配合。本发明金属掩膜板框架通过设置施力槽与C/F施力机构的施力端匹配对接，施加C/F时，C/F施力机构的施力端伸入金属掩膜板框架上的施力槽，施加C/F后两者包裹接触，之后释放C/F时，除了施力方向，金属掩膜板框架在垂直于施力方向上也受C/F施力机构的施力端的限制而无法发生偏移，从而利用C/F施力机构的施力端改善了释放C/F引起的金属掩膜板框架偏移问题。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 掩膜板 框架 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩膜板框架(2)，其特征在于，在其两侧分别设有一施力槽(20)用于与反形变作用力施力机构的施力端配合。
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