[发明专利]投影装置及其光源和设备在审
申请号: | 201811411426.0 | 申请日: | 2018-11-24 |
公开(公告)号: | CN109613792A | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 田浦延 | 申请(专利权)人: | 深圳阜时科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518055 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种投影装置,包括光源,其包括多个用于发射光束的发光单元,所述多个发光单元排列成二维图案;所述二维图案由至少两个宏单元图案复制而成;每一宏单元对应10个或10个以上的发光单元,且所述宏单元对应的发光单元具有不规则分布。光学模组,用于将发光单元发射的光束复制成多个光束。本发明还公开了一种光源和设备。本发明投影装置及其光源和设备具有较好的用户体验。 | ||
搜索关键词: | 发光单元 光源 投影装置 宏单元 二维图案 不规则分布 发射光束 光束复制 光学模组 图案复制 用户体验 发射 | ||
【主权项】:
1.一种投影装置,包括:光源,其包括多个用于发射光束的发光单元,所述多个发光单元排列成二维图案;所述二维图案由至少两个宏单元图案复制而成;每一宏单元对应10个或10个以上的发光单元,且所述宏单元对应的发光单元具有不规则分布;光学模组,用于将发光单元发射的光束复制成多个光束。
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