[发明专利]一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法有效
申请号: | 201811411972.4 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN109585574B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 魏志鹏;王登魁;方铉;房丹;王新伟;满旭;鲍妮;范杰;马晓辉 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | H01L31/02 | 分类号: | H01L31/02;H01L31/09;H01L31/18;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法,该方法通过在单根GaSb纳米线两侧用电子束光刻技术制备ITO结构图形,对ITO材料两端施加电场并对电场进行调节,实现对ITO材料表面等离子体共振频率的调节,通过对ITO材料表面等离子体共振频率的调节,实现改变GaSb纳米线探测器的特征响应波长,从而实现对GaSb纳米线探测器响应波长的连续调节。本发明所提出的方法采用GaSb基纳米线作为探测器的主体,采用ITO图形结构产生表面等离子体,在ITO图形结构上下两端施加电场,通过调节电场强度对ITO材料的介电常数进行改变,进而调节ITO材料的共振频率,实现对GaSb基纳米线探测器器件特征响应波长的调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 调节 gasb 纳米 探测器 响应 波长 方法 | ||
【主权项】:
1.一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法,包括:单根GaSb纳米线,GaSb纳米线两端的Cr/Au电极,Si衬底,Si衬底表面自然氧化层SiO2层,PECVD沉积在ITO薄膜之外区域的SiO2层,ITO规则周期图形薄膜层,ITO薄膜表面Au正电极,Si衬底背面用于在ITO材料上施加电场的Ni/Au负电极,其特征在于,这种方法采用电子束光刻技术将ITO规则周期图形结构制备在单根GaSb纳米线两侧,通过在ITO材料两侧施加电场改变ITO材料的表面等离子体共振频率,通过对ITO两端电场的调节,实现ITO材料表面等离子体共振频率的调节,进而改变GaSb纳米线探测器的特征响应波长,从而实现对GaSb纳米线探测器响应波长的连续调节。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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