[发明专利]一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法有效

专利信息
申请号: 201811411972.4 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN109585574B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 魏志鹏;王登魁;方铉;房丹;王新伟;满旭;鲍妮;范杰;马晓辉 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;H01L31/09;H01L31/18;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法,该方法通过在单根GaSb纳米线两侧用电子束光刻技术制备ITO结构图形,对ITO材料两端施加电场并对电场进行调节,实现对ITO材料表面等离子体共振频率的调节,通过对ITO材料表面等离子体共振频率的调节,实现改变GaSb纳米线探测器的特征响应波长,从而实现对GaSb纳米线探测器响应波长的连续调节。本发明所提出的方法采用GaSb基纳米线作为探测器的主体,采用ITO图形结构产生表面等离子体,在ITO图形结构上下两端施加电场,通过调节电场强度对ITO材料的介电常数进行改变,进而调节ITO材料的共振频率,实现对GaSb基纳米线探测器器件特征响应波长的调节。
搜索关键词: 一种 调节 gasb 纳米 探测器 响应 波长 方法
【主权项】:
1.一种调节GaSb纳米线探测器响应波长的方法,包括:单根GaSb纳米线,GaSb纳米线两端的Cr/Au电极,Si衬底,Si衬底表面自然氧化层SiO2层,PECVD沉积在ITO薄膜之外区域的SiO2层,ITO规则周期图形薄膜层,ITO薄膜表面Au正电极,Si衬底背面用于在ITO材料上施加电场的Ni/Au负电极,其特征在于,这种方法采用电子束光刻技术将ITO规则周期图形结构制备在单根GaSb纳米线两侧,通过在ITO材料两侧施加电场改变ITO材料的表面等离子体共振频率,通过对ITO两端电场的调节,实现ITO材料表面等离子体共振频率的调节,进而改变GaSb纳米线探测器的特征响应波长,从而实现对GaSb纳米线探测器响应波长的连续调节。
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