[发明专利]基板处理系统以及管道清洗方法

摘要

基板处理系统由清洗单元、多个处理液供给单元以及基板处理装置构成。清洗单元在对管道进行清洗时向处理液供给单元的处理单元供给第一清洗液。在将从清洗单元供给的第一清洗液贮存于处理液槽内后，处理液供给单元将处理液槽内的第一清洗液通过管道供给至基板处理装置的处理单元。清洗单元以与利用第一清洗液清洗管道并行的方式准备第二清洗液，并将准备的第二清洗液供给至处理液槽。

主权项

1.一种基板处理装置，所述基板处理装置通过向处理室内的基板供给处理液来处理基板，其特征在于，所述基板处理装置具有：处理液供给路径，向所述处理室内的基板供给处理液，清洗液供给单元，向所述处理液供给路径供给用于清洗该处理液供给路径的清洗液，气体供给单元，从所述清洗液供给单元向在所述处理液供给路径内流动的所述清洗液连续地供给气体，所述气体的每单位时间的供给量在清洗液的每单位时间的供给量以上；所述处理液供给路径具有：贮存槽，循环路径，用于使处理液在从所述贮存槽输出后再次返回所述贮存槽，喷出路径，在前端具有喷嘴，并用于将在所述循环路径中循环的处理液喷出至基板；所述气体供给单元向在所述循环路径中循环的清洗液供给气体，向在与所述喷出路径不同的所述循环路径中循环的清洗液供给气体。