[发明专利]一种基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物的制备方法

摘要

一种基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物的制备方法，以荧光纳米粒子为载体，HER2过表达的胞外区域的线性九肽和阿霉素作为双模板，合成印迹聚合物。步骤如下：制备Si NPs；Si NPs硅烷化；制备基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物。本发明将抗原决定基印迹、双模板印迹和表面印迹方法相结合合成印迹聚合物，操作简便，过程省时，且材料具有靶向成像和靶向治疗功能；采用丙烯酸锌和丙烯酰胺为功能单体，通过金属螯合和氢键作用共同固定模板，可有效提高材料对目标物的特异性识别效果，且可利用酸性pH实现药物控释；所合成的荧光型印迹聚合物，高效地结合了荧光的高灵敏性和分子印迹技术的高选择性。

主权项

1.一种基于硅纳米粒子的荧光型双模板抗原决定基印迹聚合物的制备方法，以包覆Si NPs的荧光纳米粒子为载体，以HER2过表达的胞外区域的线性九肽和药物阿霉素(DOX)作为双模板，采用双模板印迹、抗原决定基印迹和表面印迹方法得到印迹聚合物，包括如下步骤：1)将柠檬酸钠作为还原剂加入到丙三醇中，通入氩气并搅拌，10‑20min后加入硅源N‑(2‑氨乙基)‑3‑氨丙基三甲氧基硅烷(DAMO)，5‑10min后将反应前体溶液转移至常压微波反应器中，在160‑180℃下反应10‑15min，得到的橙黄色溶液透析得到Si NPs水溶液2)取Si NPs水溶液、超纯水和氨水溶于乙醇中，搅拌均匀，用恒压滴液漏斗滴加正硅酸乙酯(TEOS)，在35‑40℃条件下反应1‑2h，得到Si NPs@SiO23)将Si NPs@SiO2与丙烯酸锌(ZnA)、丙烯酰胺(AM)、阿霉素(DOX)和九肽溶于N,N‑二甲基甲酰胺(DMF)中，在60‑65℃下预组装，1‑2h后，加入交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)，通入氮气30‑50min，然后将引发剂偶氮二异丁腈(AIBN)溶于DMF并加入本步中的上述体系，搅拌反应3‑5h，得到的产物用甲醇‑醋酸混合液进行洗脱，除去模板及未反应的单体，得到印迹聚合物。