[发明专利]一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法在审
申请号: | 201811421801.X | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN109412020A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 程宗鸿;李亮;熊永华;吴倩;余斯佳;岳爱文 | 申请(专利权)人: | 武汉电信器件有限公司 |
主分类号: | H01S5/22 | 分类号: | H01S5/22;H01S5/24;H01S5/343 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙) 44341 | 代理人: | 何婷 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及激光器技术领域,提供了一种倒台型高速半导体激光器芯片及其制备方法,其中方法包括:在外延片表面生长SiNx掩膜层,刻出双沟图形;利用化学腐蚀得到倒台型脊条,并去除外延片表面剩余的SiNx掩膜层;在外延片表面生长第一SiO2保护层,再填充BCB层,光刻固化后留下双沟与压焊电极区域的BCB,再继续生长第二SiO2保护层;去除所述脊条表面的SiO2,完成电极制作。通过填充BCB,解决了倒台电极容易发生断裂以及在倒角容易形成空洞的问题,还减小激光器寄生电容,有利于激光器获得更大的调制带宽,可调制带宽达25Ghz以上;在BCB上还覆盖一层二氧化硅,避免电极直接制作在BCB上容易掉金。 | ||
搜索关键词: | 外延片表面 倒台型 高速半导体激光器 调制带宽 激光器 电极 掩膜层 脊条 去除 制备 生长 芯片 激光器技术领域 电极制作 二氧化硅 化学腐蚀 寄生电容 压焊电极 直接制作 再填充 倒角 光刻 减小 固化 填充 断裂 空洞 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种倒台型高速半导体激光器芯片的制备方法,其特征在于,包括:在外延片(1)表面生长SiNx掩膜层(2),并刻出双沟图形;利用化学腐蚀得到倒台型的脊条(6),并去除剩余的SiNx掩膜层(2);在外延片(1)表面生长第一SiO2保护层(3),再填充一层BCB层(4),光刻固化后留下双沟与压焊电极区域的BCB,继续生长第二SiO2保护层(5);去除所述脊条(6)表面的SiO2,完成电极制作。
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