[发明专利]一种氧化板的退镀方法

摘要

本发明涉及半导体加工技术领域。一种氧化板的退镀方法，包括如下步骤，步骤一，对氧化板上的镀膜进行喷砂去膜；步骤二，选取至少三个氧化板作为试片，进行实验：使用千分尺测量氧化板厚度，然后开始第一次碱蚀，氧化板放入一级碱水槽3‑5分钟后取出，观察试片的镀膜刻蚀情况，清洗后放入硝酸中和2‑3分钟，中和后，放入二级碱水槽，再次碱蚀观察镀膜情况得出碱蚀时间；步骤三，对氧化板进行碱蚀处理实现镀膜的退镀。采用上述方法，退镀效果达到和铬酸同等水平。

主权项

1.一种氧化板的退镀方法，其特征在于，包括如下步骤，步骤一，对氧化板上的镀膜进行喷砂去膜；步骤二，选取至少三个未经过使用的氧化板作为试片，进行实验：使用千分尺测量氧化板厚度，然后开始第一次碱蚀，氧化板放入一级碱水槽3‑5分钟后取出，观察试片的镀膜刻蚀情况，清洗后放入硝酸中和2‑3分钟，中和后，放入二级碱水槽，再次碱蚀观察镀膜情况得出碱蚀时间；步骤三，对氧化板进行碱蚀处理实现镀膜的退镀；氧化板是本色氧化工艺或者硬质氧化工艺制备的氧化板；针对于本色氧化工艺制备的氧化板，硬度为280‑320HV，碱蚀步骤如下：1)氧化板上料挂紧；2)进行第一次碱蚀，时间参考试片的碱蚀时间，吊起氧化板以后放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水，冲洗3‑5秒；3)放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；4)放入硝酸中中和，中和时间参考试片的中和时间，后放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；5)再次碱蚀，再次碱蚀的时间参考试片再次碱蚀的时间，观察一下氧化板碱蚀情况，确保镀膜去除完毕后，放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水冲洗3‑5秒；6)再放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起板料时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；7)放入硝酸中中和2‑3分钟，后放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；8)对氧化板进行干燥；针对于硬质氧化工艺制备的氧化板，硬度为480‑520HV，碱蚀步骤如下：1)氧化板上料挂紧，2)进行第一次碱蚀，时间参考试片的碱蚀时间，吊起氧化板以后放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水，冲洗3‑5秒；3)放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；4)放入硝酸中中和5分钟后，放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；5)再次碱蚀，再次碱蚀的时间参考试片再次碱蚀的时间，观察一下氧化板碱蚀情况，确保镀膜去除完毕后取出；6)再放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起板料时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；7)放入硝酸中中和5分钟后，放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗；8)对氧化板进行干燥。