[发明专利]一种氧化板的退镀方法在审
申请号: | 201811424792.X | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109321920A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 张继月;贺贤汉;董卓懿 | 申请(专利权)人: | 上海申和热磁电子有限公司 |
主分类号: | C23F1/36 | 分类号: | C23F1/36 |
代理公司: | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人: | 顾兰芳 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及半导体加工技术领域。一种氧化板的退镀方法,包括如下步骤,步骤一,对氧化板上的镀膜进行喷砂去膜;步骤二,选取至少三个氧化板作为试片,进行实验:使用千分尺测量氧化板厚度,然后开始第一次碱蚀,氧化板放入一级碱水槽3‑5分钟后取出,观察试片的镀膜刻蚀情况,清洗后放入硝酸中和2‑3分钟,中和后,放入二级碱水槽,再次碱蚀观察镀膜情况得出碱蚀时间;步骤三,对氧化板进行碱蚀处理实现镀膜的退镀。采用上述方法,退镀效果达到和铬酸同等水平。 | ||
搜索关键词: | 氧化板 镀膜 退镀 放入 碱蚀 碱水槽 试片 半导体加工技术 千分尺测量 同等水平 硝酸中和 次碱 铬酸 观察 刻蚀 喷砂 去膜 清洗 取出 中和 | ||
【主权项】:
1.一种氧化板的退镀方法,其特征在于,包括如下步骤,步骤一,对氧化板上的镀膜进行喷砂去膜;步骤二,选取至少三个未经过使用的氧化板作为试片,进行实验:使用千分尺测量氧化板厚度,然后开始第一次碱蚀,氧化板放入一级碱水槽3‑5分钟后取出,观察试片的镀膜刻蚀情况,清洗后放入硝酸中和2‑3分钟,中和后,放入二级碱水槽,再次碱蚀观察镀膜情况得出碱蚀时间;步骤三,对氧化板进行碱蚀处理实现镀膜的退镀;氧化板是本色氧化工艺或者硬质氧化工艺制备的氧化板;针对于本色氧化工艺制备的氧化板,硬度为280‑320HV,碱蚀步骤如下:1)氧化板上料挂紧;2)进行第一次碱蚀,时间参考试片的碱蚀时间,吊起氧化板以后放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水,冲洗3‑5秒;3)放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;4)放入硝酸中中和,中和时间参考试片的中和时间,后放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;5)再次碱蚀,再次碱蚀的时间参考试片再次碱蚀的时间,观察一下氧化板碱蚀情况,确保镀膜去除完毕后,放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水冲洗3‑5秒;6)再放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起板料时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;7)放入硝酸中中和2‑3分钟,后放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;8)对氧化板进行干燥;针对于硬质氧化工艺制备的氧化板,硬度为480‑520HV,碱蚀步骤如下:1)氧化板上料挂紧,2)进行第一次碱蚀,时间参考试片的碱蚀时间,吊起氧化板以后放入水冲洗槽进行冲洗去掉碱水,冲洗3‑5秒;3)放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;4)放入硝酸中中和5分钟后,放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;5)再次碱蚀,再次碱蚀的时间参考试片再次碱蚀的时间,观察一下氧化板碱蚀情况,确保镀膜去除完毕后取出;6)再放置在水洗槽中清洗3‑5秒吊起板料时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;7)放入硝酸中中和5分钟后,放入水洗槽中清洗3‑5秒吊起氧化板时在用水喷淋对氧化板进行喷淋清洗;8)对氧化板进行干燥。
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