[发明专利]一种晶圆键合加压装置及晶圆键合设备有效
申请号: | 201811425675.5 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN111223812B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 王盛凯;王英辉 | 申请(专利权)人: | 昆山微电子技术研究院 |
主分类号: | H01L21/762 | 分类号: | H01L21/762 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 215347 江苏省苏州市昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆键合加压装置,所述晶圆键合加压装置包括压头及压头台座;所述压头台座朝向所述晶圆键合加压装置的置物台的表面上具有腔体,所述腔体的底面为弧形底面;所述压头为球形压头、椭球形压头或卵形压头;所述压头设置于所述腔体内部;所述压头可在所述腔体内滚动,且所述压头保持有部分处于腔体开口外侧。本发明提供的晶圆键合加压装置,在对晶圆加压的过程中,由于上述底面对上述压头的力与上述待键合晶圆对上述压头的力不处于同一直线上,减小了上述待键合晶圆在加压过程中受到的冲量,降低上述待键合晶圆表面损伤和破碎的概率,提升了最终成品的良品率,降低了原料成本。本发明还同时提供一种具有上述有益效果的晶圆键合设备。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶圆键合 加压 装置 设备 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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