[发明专利]4,4’-二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811426254.4 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN109575005B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 伍致生;郭旺军;张杰;宋新潮;刘亚东;王户生;周继华 申请(专利权)人: 西安近代化学研究所
主分类号: C07D409/14 分类号: C07D409/14;C09B57/00;H01G9/20;H01G9/042
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 梁勇
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种4,4’‑二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料及其制备方法,该光敏染料的结构式如下:式中R1代表C1~C10烷基;D为硫脲三苯胺电子供体。本发明在联噻吩桥链的4和4’两个位置引入烷基苯,可达到拓宽纯有机光敏染料吸收谱带范围和抑制分子间团聚的双重效果:一方面,烷基苯可进一步提高联噻吩桥链的富电子性能,利于电子从供体向受体的传递,从而拓宽染料的吸收谱带范围;另一方面,烷基苯具有一定的空间位阻,可有效抑制染料分子间的团聚。4,4’‑二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料可用于制备太阳能电池,因其不含贵金属钌,制备成本低,且纯化方法简单,具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 烷基苯 噻吩 硫脲 苯胺 光敏 染料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种4,4’‑二(烷基苯)联噻吩桥联硫脲三苯胺光敏染料,其特征在于该光敏染料的结构式如下所示:式中,R1代表C1~C10烷基;D代表以下结构:式中,R2代表C1~C10烷基。
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