[发明专利]蒸镀用掩模板组有效
申请号: | 201811430739.0 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN109306450B | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 林治明 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 一种蒸镀用掩模板组,包括至少两个配套的掩模板,所述掩模板包括掩模板本体和开口区,所述开口区内设置有遮挡部、至少一连接件、以及蒸镀区;所述连接件连接所述掩模板本体与所述遮挡部;所述掩模板组中的一个掩模板的连接件的尺寸与其他掩模板的蒸镀区的尺寸相同且重叠,至少两个所述掩模板的蒸镀区相互配合。通过提供配套的掩模板分步完成蒸镀工艺,实现屏幕的特定区域不蒸镀材料,进而实现将摄像头内置到屏幕中,从而有利于实现全面屏。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀用掩 模板 | ||
【主权项】:
1.一种蒸镀用掩模板组,包括至少两个配套的掩模板,其特征在于,所述掩模板包括:掩模板本体;开口区,所述开口区内设置有遮挡部、至少一连接件、以及蒸镀区;其中,所述连接件连接所述掩模板本体与所述遮挡部;所述掩模板组中的一个掩模板的连接件的尺寸与其他掩模板的蒸镀区的尺寸相同且重叠,至少两个所述掩模板的蒸镀区相互配合。
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