[发明专利]一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811433646.3 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109671818B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 郭炳磊;刘旺平;曹阳;王群;葛永晖;李鹏 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,属于半导体技术领域。氮化镓基发光二极管外延片包括衬底、缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层依次层叠在衬底上,氮化镓基发光二极管外延片还包括石墨烯粉末和第一氢化硼层,石墨烯粉末平铺在缓冲层上,第一氢化硼层铺设在石墨烯粉末以及石墨烯粉末中露出的缓冲层上。本发明通过先在缓冲层上平铺一层石墨烯粉末,再在石墨烯粉末和石墨烯粉末中露出的缓冲层上铺设氢化硼层,石墨烯的导热性能很好,同时氢化硼的导热性能也不差,可以快速传递外延生长的热量,提高外延片的均匀性和一致性。
搜索关键词: 一种 氮化 发光二极管 外延 及其 制备 方法
【主权项】:
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