[发明专利]一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法有效
申请号: | 201811433646.3 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN109671818B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 郭炳磊;刘旺平;曹阳;王群;葛永晖;李鹏 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 322000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,属于半导体技术领域。氮化镓基发光二极管外延片包括衬底、缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层依次层叠在衬底上,氮化镓基发光二极管外延片还包括石墨烯粉末和第一氢化硼层,石墨烯粉末平铺在缓冲层上,第一氢化硼层铺设在石墨烯粉末以及石墨烯粉末中露出的缓冲层上。本发明通过先在缓冲层上平铺一层石墨烯粉末,再在石墨烯粉末和石墨烯粉末中露出的缓冲层上铺设氢化硼层,石墨烯的导热性能很好,同时氢化硼的导热性能也不差,可以快速传递外延生长的热量,提高外延片的均匀性和一致性。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 发光二极管 外延 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(浙江)有限公司,未经华灿光电(浙江)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811433646.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种灰渣输送机构及气化等离子废物熔融炉
- 下一篇:一种移动终端