[发明专利]激光清洗透光介质透射面杂质的方法有效

专利信息
申请号: 201811433931.5 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109590288B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 韩敬华;姜越;冯国英;于慧波 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00
代理公司: 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 代理人: 李凌峰
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及激光技术。本发明解决了目前激光清洗技术仅应用在清洗物体被激光照射的前表面的问题,提供了一种激光清洗透光介质透射面杂质的方法,其技术方案可概括为:确定待清洗透明介质的物理参数,根据其物理参数选择对应的高透过率波段,再确定待清洗透明介质透射面上的杂质,根据杂质对光波长的吸收率曲线,从确定的高透过率波段中选择出杂质吸收率高的波长,该波长即为激光清洗时的激光波长,选择出能够令待清洗透明介质的透射面上的杂质被去除的激光输出功率及激光作用焦点,对待清洗透明介质的透射面上的杂质进行清洗。本发明的有益效果是:简单实用,适用于激光清洗透光介质透射面杂质。
搜索关键词: 激光 清洗 透光 介质 透射 杂质 方法
【主权项】:
1.激光清洗透光介质透射面杂质的方法,其特征在于,应用于清洗透明介质的透射面,设透明介质面向激光光源的外表面为入射面,其相对应的另一外表面为透射面,包括以下步骤:步骤1、确定待清洗透明介质的物理参数,根据其物理参数选择对应的高透过率波段;步骤2、确定待清洗透明介质透射面上的杂质,根据杂质对光波长的吸收率曲线,从步骤1中确定的高透过率波段中选择出杂质吸收率高的波长,该波长即为激光清洗时的激光波长;步骤3、选择出能够令待清洗透明介质的透射面上的杂质被去除的激光输出功率及激光作用焦点,对待清洗透明介质的透射面上的杂质进行清洗。
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