[发明专利]多重防伪镭射印章膜及其应用在审

专利信息
申请号: 201811434920.9 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109523901A 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 惠少麟;陆志伟;沈雁 申请(专利权)人: 中科艾迈克精密机电制造(苏州)有限公司
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02;B41K3/04;B41K3/62;B41M3/14
代理公司: 苏州市新苏专利事务所有限公司 32221 代理人: 朱建民
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种多重防伪镭射印章膜,包括一复合膜体,其特征在于:所述复合膜体自底向上依次包括胶层、光栅膜及表层保护膜,所述复合膜体上通过热压工序形成具有凹凸结构的防伪图案,该防伪图案为由干涉条纹组合成的缩微图形,所述防伪图案上的单角度存储信息密度大于100Mbit/cm2;将防伪镭射印章膜可以用于产品传递过程中和保存过程中的防伪。本发明通过表面凹凸结构的防伪图案的唯一性,确保被粘贴产品的真实性、独一无二性,且防伪膜的不可重复使用性,杜绝二次粘贴的可能,大大提升仿伪性能。
搜索关键词: 防伪图案 复合膜 镭射 印章 多重防伪 防伪 粘贴 表面凹凸结构 表层保护膜 独一无二性 重复使用性 唯一性 凹凸结构 干涉条纹 角度存储 防伪膜 光栅膜 胶层 热压 真实性 中和 保存 传递 应用
【主权项】:
1.一种多重防伪镭射印章膜,包括一复合膜体,其特征在于:所述复合膜体自底向上依次包括胶层、光栅膜及表层保护膜,所述复合膜体上通过热压工序形成具有凹凸结构的防伪图案,该防伪图案为由干涉条纹组合成的缩微图形,所述防伪图案上的单角度存储信息密度大于100Mbit/cm2。
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