[发明专利]黑色氧化铟超薄纳米片及其制备方法和光热催化应用有效

专利信息
申请号: 201811435415.6 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109647373B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 欧阳述昕;齐宇航;宋立柱;宁尚波 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: B01J23/08 分类号: B01J23/08;C01G15/00;B82Y40/00;C01B32/40
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 琪琛
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种黑色氧化铟超薄纳米片及其制备方法和光热催化应用,通过光热还原的手段在纳米氧化铟晶体的形成过程中引入大量氧空位活性位点,相比传统的宽带隙的淡黄色氧化铟,引入的氧空位不仅扩展了材料对光的吸收范围,也提高了材料的光热转化效率。并且由于黑色氧化铟纳米片特殊的二维层状结构,导致在其周围的二氧化碳分子可以被片层表面高浓度的氧空位活性位点高效吸附并活化,在汇聚太阳光照射的条件下,催化CO2和H2反应,合成工业费托反应的原料CO。该方法绿色环保,简单可行,产品纯净无其他杂质,使得本发明制备的黑色氧化铟纳米片在电子、光电、和环境能源领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 黑色 氧化 超薄 纳米 及其 制备 方法 光热 催化 应用
【主权项】:
1.一种黑色氧化铟超薄纳米片,其特征在于,按照如下方法制备而成:将油酸钠和氯化铟粉末溶解于去离子水中,然后将所得到的溶液置于水热反应釜中,保温后自然降温,将反应后悬浊液取出离心、洗涤、干燥、研磨,最后将样品置于光热催化反应系统中光照得到黑色氧化铟超薄纳米片,所述黑色氧化铟超薄纳米片的平均厚度为3‑5nm。
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