[发明专利]一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置有效
| 申请号： | 201811436294.7 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN109297649B | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 王志猛;白景彬;刘景铎;朱捷;郭亚明;刘海燕;王春炎;霍福帅;姜全振;赵鹃;石晶辉;耿昌;肖长源;李思源;段天禹 | 申请（专利权）人： | 首都航天机械有限公司;中国运载火箭技术研究院 |
| 主分类号： | G01M3/20 | 分类号： | G01M3/20;G01M3/22 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 100076 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置，解决了膜片由于薄壁及焊接内圆焊缝后形成的内腔小难以密封的问题，有效的避免了因膜片内圆焊缝泄漏导致整个膜盒报废的难题，且通过使用膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置大幅提高检漏效率。通过使用内撑工装、上下盖及密封圈等对膜片内圆焊缝焊接后形成的狭小空间进行密封，达到了快速、准确的氦质谱检漏的目的；本发明与现有技术相比，通过使用内撑工装、上下盖及密封圈等对膜片内圆焊缝焊接后形成的狭小空间进行密封，实现了膜片内圆焊缝检漏，减少了因膜片焊缝泄漏导致整个膜盒报废的可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 膜片 焊缝 快速 氦质谱 检漏 装置 | ||
【主权项】：
1.一种膜片内圆焊缝快速氦质谱检漏的装置，其特征在于：包括上盖(1)、内撑工装(2)、接管嘴进气口(3)、下盖(4)、抽真空光杆(5)；所述上盖(1)和下盖(4)为板状结构，所述上盖(1)的下表面和下盖(4)的上表面均设有与所述内撑工装(2)配合定位和连接的台阶；所述内撑工装(2)包括两个半圆柱支撑件和两个膜片支撑件，所述两个半圆柱支撑件的两端分别配合支撑在所述上盖(1)和下盖(4)的台阶之间，所述膜片支撑件为一定厚度的环状结构，固定安装在两个半圆柱支撑件的周向内侧，所述膜片支撑件和半圆柱支撑件一一对应，所述膜片支撑件和半圆柱支撑件在径向设有相连通的通气孔，所述半圆柱支撑件周向外侧的接管嘴进气口(3)处设有氦气通路；所述上盖(1)、内撑工装(2)、接管嘴进气口(3)和下盖(4)构成膜片腔体；所述抽真空光杆(5)固定安装在上盖(1)的上表面，且与设在上盖(1)的上表面的抽真空通孔连通，用于将所述膜片腔体抽真空。
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