[发明专利]一种放射治疗X射线源及X射线源装置在审
| 申请号： | 201811437049.8 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN109524284A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 石伟;梁栋;洪序达;葛永帅;胡战利;蒋昌辉;张其阳;郑海荣 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | H01J35/02 | 分类号： | H01J35/02;H01J35/06;H01J35/14 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种放射治疗X射线源及X射线源装置，涉及放射治疗技术领域。放射治疗X射线源包括：衬底；冷阴极电子发射源，设置在衬底；阳极透射靶，与冷阴极电子发射源正对设置，阳极透射靶与衬底之间能够施加电场；过滤器，设置在阳极透射靶背向冷阴极电子发射源的一侧；衬底、冷阴极电子发射源、阳极透射靶和过滤器封装在真空腔体中。X射线源装置，采用上述的放射治疗X射线源，还包括聚焦透镜和限束器。本发明提出的放射治疗X射线源，与现有技术相比，电子逸出通过冷阴极场致发射，不需要对阴极材料进行预热，功耗低，阴极材料采用面阵排布，发射电子效率高；X射线源装置，采用透射靶，体积小，产生X射线效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 放射治疗 透射 冷阴极电子 阳极 发射源 衬底 过滤器 阴极材料 发射电子效率 放射治疗技术 电场 场致发射 聚焦透镜 真空腔体 正对设置 冷阴极 体积小 限束器 预热 功耗 面阵 排布 逸出 封装 施加 | ||
【主权项】：
1.一种放射治疗X射线源，其特征在于，放射治疗X射线源(3)包括：衬底(31)；冷阴极电子发射源(32)，设置在所述衬底(31)上；阳极透射靶(33)，与所述冷阴极电子发射源(32)正对设置，阳极透射靶(33)与所述衬底(31)之间能够施加电场；过滤器(34)，设置在所述阳极透射靶(33)背向所述冷阴极电子发射源(32)的一侧；所述衬底(31)、冷阴极电子发射源(32)、阳极透射靶(33)和过滤器(34)封装在真空腔体中。
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