[发明专利]一种基于真空热处理的模具靶向表面处理方法和渗硼剂有效
| 申请号： | 201811440059.7 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109468579B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 杨浩鹏;苏治光;刘小阳 | 申请（专利权）人： | 杨浩鹏;深圳中望金属科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/70 | 分类号： | C23C8/70;C21D1/18;C21D1/773;C23F17/00 |
| 代理公司： | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 | 代理人： | 苗燕 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种基于真空热处理的对模具型腔进行靶向表面处理的工艺技术(TSS处理)，属于绿色环保型新工艺技术。针对现有模具渗硼生产的缺点，本发明创新性地采用在模具型腔喷涂渗硼剂和保护层并烘干，然后装入真空高压气淬或真空油淬炉，在模具进行真空淬火处理的加热和保温过程中对模具型腔实施渗硼处理，再对模具进行回火处理，最后清理粘附在模具型腔上的残余渗剂并对模具型腔表面进行抛亮处理。本发明的靶向渗硼技术能稳定地在模具型腔区域得到渗层为Fe |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 真空 热处理 模具 靶向 表面 处理 方法 渗硼剂 | ||
【主权项】：
1.一种基于真空热处理的模具靶向表面处理方法，其特征在于，包括以下步骤：所述模具包括模具型腔，在所述模具型腔的表面涂覆渗硼膏剂和保护层浆料并烘干，所述渗硼膏剂包括渗硼剂，所述渗硼剂包括B4C 20‑40wt％，KBF4 10‑30wt％，活性炭2‑10wt％，CeO2 5‑15wt％和SiC 5‑30wt％；装入真空高压气淬或真空油淬炉，在所述模具进行真空淬火处理的加热和保温过程中对所述模具型腔实施渗硼处理；再对所述模具进行回火处理；最后清理粘附在所述模具型腔的表面的残余所述渗硼膏剂及保护层并对所述模具型腔的表面进行抛亮处理。
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