[发明专利]基于达曼光栅的激光直写装置在审
| 申请号： | 201811444399.7 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109283805A | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 王津;周常河;贾伟;谢永芳;赵冬;项长铖 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/58 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 陈燕娴 |
| 地址： | 510632 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于达曼光栅激光直写装置。将STED超分辨引入到达曼光栅激光直写光路部分，充分利用STED超分辨成像，将激发光和损耗光的两种空间分布的光斑进行重叠，重叠区域荧光被猝灭，因此只有中心区域很小范围内才能够辐射荧光，实现了超分辨成像，可以产生一个更小的聚焦光斑，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。在此基础上利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 刻写 达曼光栅 激光直写装置 超分辨成像 激光直写 荧光 直写 衍射光学元件 高密度光栅 光斑 光栅 光栅栅线 聚焦光斑 空间分布 中心区域 重叠区域 并行度 超分辨 激发光 损耗光 光路 猝灭 辐射 引入 | ||
【主权项】：
1.基于达曼光栅的激光直写装置，其包括，移动平台(20)，达曼光栅激光直写光路以及自聚焦光路，其中，所述达曼光栅激光直写光路包括激发光光源(1)以及损耗光光源(3)，激发光光源(1)及损耗光光源(3)输出的光束传输经过二色相镜(5)以及达曼光栅(7)之后聚焦于待刻写的光栅基片表面，激发光光源(1)与损耗光光源(3)的光斑重叠，形成超分辨的多束光点；所述自聚焦光路包括红光激光器(21)，所述红光激光器(21)输出的光束经偏振分光棱镜(15)后，经由显微物镜(18)聚焦于待刻写的光栅基片表面，被所述待刻写的光栅基片反射后的光束经偏振分光棱镜(15)、柱面透镜组(14)之后，传输至四象限探测器(13)。
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