[发明专利]用于溅射系统上提高薄膜均匀性的装置及其加工方法有效
| 申请号： | 201811445496.8 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109355631B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;杨其垚 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B23P15/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 徐彦圣 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于溅射系统上提高薄膜均匀性的装置及其加工方法，涉及溅射设备技术领域。包括本体，所述本体包括与基板连接的圆柱体、以及圆台体；所述圆柱体具有第一原子通道；沿所述圆台体的窄面至所述圆台体的宽面的方向，所述圆台体上开设有若干个相互独立的第二原子通道；若干个所述第二原子通道布满所述圆台体，其中，所述第二原子通道的截面为六边形；所述第一原子通道与所述第二原子通道连通；位于所述圆台体的宽面，所述圆台体与所述圆柱体一体成型；该用于溅射系统上提高薄膜均匀性的装置能够提高薄膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 系统 提高 薄膜 均匀 装置 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.用于溅射系统上提高薄膜均匀性的装置，其特征在于，包括本体，所述本体包括与基板连接的圆柱体、以及圆台体；所述圆柱体具有第一原子通道；沿所述圆台体的窄面至所述圆台体的宽面的方向，所述圆台体上开设有若干个相互独立的第二原子通道；若干个所述第二原子通道布满所述圆台体，其中，所述第二原子通道的截面为六边形；所述第一原子通道与所述第二原子通道连通；位于所述圆台体的宽面，所述圆台体与所述圆柱体一体成型。
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