[发明专利]一种利用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法在审
申请号: | 201811448483.6 | 申请日: | 2018-11-30 |
公开(公告)号: | CN109371394A | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 钟庆东 | 申请(专利权)人: | 湖南上临新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C24/10 | 分类号: | C23C24/10;C21D7/06;C21D1/773 |
代理公司: | 岳阳市大正专利事务所 43103 | 代理人: | 皮维华 |
地址: | 414300 湖南省岳*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种利用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法,其特征在于包括如下步骤:低硅钢预处理;表面机械研磨处理SMAT;沉积涂层制备:将SMAT处理后的材料表面涂覆激光吸光涂料,其骨料组成为80‑85%SiO2,20‑22%炭黑;然后置于真空度为1.33‑2.1Pa的真空系统中,向该真空系统中通入氩气和硅烷,氩气的流量为0.03‑0.05ml/s,硅烷的流量为0.01‑0.08 ml/s,气体气氛压力为80‑100Pa,用激光器对材料表面进行激光扫描;热处理制备出厚度为0.10‑0.25mm的高硅涂层。本发明工艺可以实现快速扩散,提高渗硅层厚度;变形层可以为扩散提供足够的驱动力,促进渗硅的进行,后续激光熔覆及扩散退火热处理,提高了渗硅效率,实现快速渗硅,并且避免了常规方法中的卤族元素的污染,从而获得的高硅涂层具有更加优异的含硅量,扩大了其使用领域。 | ||
搜索关键词: | 高硅涂层 制备 渗硅 热处理 激光 氩气 硅钢表面 真空系统 硅烷 预处理 表面机械研磨 气体气氛压力 扩散 沉积涂层 激光熔覆 激光扫描 扩散退火 卤族元素 吸光涂料 激光器 变形层 低硅钢 含硅量 驱动力 渗硅层 骨料 炭黑 涂覆 污染 | ||
【主权项】:
1.一种利用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法,其特征在于包括如下步骤:a. 低硅钢预处理:首先将其置于质量分数为5% NaOH溶液中,温度为70‑75℃,浸渍清除表面绝缘膜;随后在60‑70℃的质量分数为 10% 盐酸中浸渍清除表面底膜,再于质量分数比3% HF+ 97%H2O2中加以化学研磨使表面平滑化,最后在质量分数为5%的NaOH溶进行黑化处理,处理温度80‑90℃,在去离子水和乙醇中超声清洗1‑5min后放入干燥器待用;b. 表面机械研磨处理SMAT:预处理后的低硅钢钢板安装在SNC‑2表面纳米化试验机上,其固定于护套上方,弹丸放置于振动头表面,所用弹丸为直径4‑8mm的钢球,超声振动频率为20‑50Hz,处理时间为40‑60min,为防止氧化整个处理过程在真空条件下进行,真空度为5‑20Pa;c. 沉积涂层制备:将SMAT处理后的材料表面涂覆激光吸光涂料,其骨料组成为80‑85%SiO2,20‑22%炭黑;然后置于真空度为1.33‑2.1Pa的真空系统中,向该真空系统中通入氩气和硅烷,氩气的流量为0.03‑0.05ml/s,硅烷的流量为0.01‑0.08 ml/s,气体气氛压力为80‑100Pa,用7kW横流CO2激光器对材料表面进行激光扫描;d. 热处理:将沉积涂层制备完成后将低硅钢置于真空度为的电阻炉,保持温度在1000‑1500,保温4‑8h,制备出厚度为0.10‑0.25mm的高硅涂层。
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