[发明专利]一种浅地层剖面非零偏移距的消除方法在审

专利信息
申请号: 201811449588.3 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN109490962A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 赵波;谭军;宋鹏;李金山;夏冬明;解闯;张洪洋;张超;张锐埼;王绍文 申请(专利权)人: 中国海洋大学
主分类号: G01V1/36 分类号: G01V1/36
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 266100 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种浅地层剖面非零偏移距的消除方法,属于勘探地震的资料处理领域,所述方法为首先拾取浅地层剖面的直达波;得到每个非零偏移距位置的直达波旅行时,计算出非零偏移距浅地层剖面的反射信号旅行时与零偏移距道反射信号旅行时的时移误差,将得出时移误差在非零偏移距浅地层剖面的反射信号旅行时中减去就得到零偏移距浅地层剖面。本发明根据直达波走时与反射波走时之间的关系,并基于非零偏移距道反射波旅行时与源于同一反射点的零偏移距道反射波旅行时满足双曲线规律这一假设条件,得到各道非零偏移距道反射波的校正时差,从而实现了浅地层剖面非零偏移距的有效消除。非零偏移距影响消除之后的剖面能更精确地反映实际地质层位的深度信息,适应于目标工区的精细地质调查需求。
搜索关键词: 非零偏移 浅地层 旅行 反射波 反射信号 零偏移 直达波 时移 双曲线规律 地质层位 假设条件 精细地质 深度信息 影响消除 资料处理 反射点 减去 拾取 时差 校正 勘探 地震 调查
【主权项】:
1.一种浅地层剖面非零偏移距的消除方法,其特征在于所述方法的具体步骤如下:1)各道直达波旅行时拾取:给定浅地层剖面f(x,t(x)),其中x表示水平距离,t(x)表示x位置的时间,在剖面拾取直达波同相轴,得到每个x位置的直达波旅行时t0(x);2)各道时移误差求取:在水平层状介质条件下,非零偏移距浅地层剖面的各道反射信号旅行时t(x)与源于同一反射点的零偏移距道反射信号旅行时τ(x)满足双曲线规律,即:上式中v为地震波传播速度;又由于直达波旅行时与水平距离x之间满足:x=vt0(x)      (2)则可推出零偏移距道中的旅行时τ为:进一步得到每个x位置,每个t时刻的时移误差Δt(x,t):3)根据公式(5),得到每个x位置的零偏移距道旅行时τ(x),并最终得到浅地层零偏移距剖面F(x,τ(x));τ(x)=t(x)‑Δt(x,t)       (5)。
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