[发明专利]一种具有适宜孔隙率和抗压强度硼酸镁晶须陶瓷膜支撑体的制备方法在审
申请号: | 201811450158.3 | 申请日: | 2018-11-30 |
公开(公告)号: | CN109456077A | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 陈善华;韩世虎;罗青松 | 申请(专利权)人: | 成都理工大学 |
主分类号: | C04B38/00 | 分类号: | C04B38/00;C04B35/58;C04B35/622;C04B35/64 |
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地址: | 610059 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备具有适宜孔隙率和抗压强度的硼酸镁晶须陶瓷膜支撑体的方法,该方法以碱式碳酸镁和硼酸为主要原料,氟化镁(MgF2)为烧结助剂,聚乙烯醇(PVA)为粘结剂,去离子水为溶剂,包括以下步骤:①称量;②球磨混料;③80℃干燥;④压制成型;⑤110℃干燥;⑥烧结。与现有的发明相比,在保留原位合成制备硼酸镁晶须多孔陶瓷的基础上,本发明制备出了抗压强度范围为11.35 MPa~14.51 MPa,孔隙率范围为51.77%~60.95%的硼酸镁晶须多孔陶瓷,一方面解决了硼酸镁晶须多孔陶瓷抗压强度和孔隙率变化太大的问题,另一方面解决了用冷冻注模法和溶胶凝胶法制备硼酸镁晶须多孔陶瓷工艺复杂等问题。 | ||
搜索关键词: | 硼酸镁晶须 多孔陶瓷 制备 孔隙率 陶瓷膜支撑体 硼酸 溶胶凝胶法制 碱式碳酸镁 孔隙率变化 冷冻注模法 聚乙烯醇 球磨混料 去离子水 烧结助剂 原位合成 烧结 氟化镁 粘结剂 溶剂 称量 保留 | ||
【主权项】:
1.一种具有适宜孔隙率和抗压强度的硼酸镁晶须陶瓷膜支撑体的制备方法,该方法以碱式碳酸镁和硼酸为主要原料,氟化镁为烧结助剂,聚乙烯醇为粘结剂,去离子水为溶剂,包括以下步骤:①称量;②球磨混料;③80 ℃干燥;④压制成型;⑤110 ℃干燥;⑥烧结。
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