[发明专利]一种表面等离子体共振成像装置及方法有效

专利信息
申请号: 201811451684.1 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN109297935B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 邵永红;王雪亮;曾佑君;屈军乐 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 袁文英
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种表面等离子体共振成像装置及方法,用于对细胞的吸附力及受激响应进行探测,解决了现有技术中表面等离子体共振成像方法的探测结果与细胞的实际情况之间存在较大误差的问题;包括:细胞培养组件,用于培养细胞,并用于接收细胞生长及受到外界刺激的过程中产生的表面等离子体共振信号;设置在所述细胞培养组件一侧的第一光源提供件,用于为细胞提供光刺激;设置在所述细胞培养组件及所述第一光源提供件之间的光调控组件;设置在所述细胞培养组件远离所述光调控组件一侧的共振传感组件,用于根据所述表面等离子体共振信号获取表面等离子体共振图像;从而降低了表面等离子体共振成像方法的探测结果与细胞的实际情况之间的误差。
搜索关键词: 一种 表面 等离子体 共振 成像 装置 方法
【主权项】:
1.一种表面等离子体共振成像装置,其特征在于,包括:细胞培养组件,用于培养细胞,并用于接收细胞生长及受到外界刺激的过程中产生的表面等离子体共振信号变化;设置在所述细胞培养组件一侧的第一光源提供件,用于为细胞提供光刺激;设置在所述细胞培养组件及所述第一光源提供件之间的光调控组件,用于对第一光源提供件发出的光线进行远心光路处理,并对光线滤波及调节光线的强度;设置在所述细胞培养组件远离所述光调控组件一侧的共振传感组件,用于根据所述表面等离子体共振信号构造表面等离子体共振图像。
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