[发明专利]一种依托度酸光降解杂质及其制备方法有效
| 申请号： | 201811451706.4 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109485616B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 张贵民;郝大伟;刘东 | 申请（专利权）人： | 鲁南制药集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D267/00 | 分类号： | C07D267/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 276005 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于生物医药领域，具体涉及一种依托度酸光降解杂质及其制备方法。本发明采用将依托度酸溶解在有机溶剂中，在有氧的条件下进行光照破坏，并采用超临界流体色谱分离纯化即可得到高纯度的依托度酸光降解杂质。本发明所得依托酸酸光降解杂质总收率超过48％，超临界流体色谱纯化收率超过90％，所得依托度酸光降解杂质纯度高达99.01％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 依托 光降解 杂质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种依托度酸光降解杂质化合物，其结构式如式Ι所示，![]()
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