[发明专利]一种管式LPCVD真空反应室

摘要

本发明公开了管式LPCVD真空反应室，包括炉门、前端法兰、前支撑法兰、前密封组件、加热炉体、后支撑法兰、后密封组件、尾端法兰、内层石英管和外层石英管，加热炉体套于外层石英管上，前支撑法兰和后支撑法兰分别位于外层石英管的两端的外管壁上，前支撑法兰、加热炉体和后支撑法兰三者固定设置，炉门与前端法兰连接，前端法兰盖设于内、外层石英管的前端端口，前端法兰与外层石英管之间通过前密封组件连接，前密封组件固定在前支撑法兰上，尾端法兰设于内、外层石英管的后端，且尾端法兰与外、内层石英管之间通过后密封组件连接，后密封组件固定在后支撑法兰上。本发明具有拆卸维护更加简单、快捷，缩短了维护时间，经济效益显著的优点。

主权项

1.一种管式LPCVD真空反应室，其特征在于：包括炉门(100)、前端法兰(200)、前支撑法兰(300)、前密封组件(400)、加热炉体(500)、后支撑法兰(600)、后密封组件(700)、尾端法兰(800)、内层石英管(910)和外层石英管(920)，所述外层石英管(920)套于内层石英管(910)的外部，所述加热炉体(500)套于外层石英管(920)上，所述前支撑法兰(300)和后支撑法兰(600)分别位于外层石英管(920)的两端的外管壁上，所述前支撑法兰(300)、加热炉体(500)和后支撑法兰(600)三者固定设置，所述炉门(100)与前端法兰(200)连接，所述前端法兰(200)盖设于内层石英管(910)和外层石英管(920)的前端端口，所述前端法兰(200)与外层石英管(920)之间通过前密封组件(400)连接，所述前密封组件(400)固定在前支撑法兰(300)上，所述尾端法兰(800)设于内层石英管(910)和外层石英管(920)的后端，且尾端法兰(800)与外层石英管(920)和内层石英管(910)之间通过后密封组件(700)连接，所述后密封组件(700)固定在后支撑法兰(600)上。